真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304優質不銹鋼
觀察窗Φ100mm,含磁力擋板
屏蔽板不銹鋼,便于拆卸清潔、更換
水冷蒸發電極8根組成4組
金屬蒸發電源功率3kW
復合分子泵JTFB-650Z脂潤滑分子泵,抽速650L/s
直聯高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
氣動高真空插板閥DN150
前級閥/旁路閥DN40
放氣閥φ10 電磁充氣閥
數顯復合真空計兩低一高,含規管
波紋管、真空管道材質SUS304不銹鋼
束源爐(也稱為束流源、束流爐)是一種用于核反應的設備,通常用于研究或工業應用中,特別是在粒子加速器和核聚變研究中。這種設備利用高能粒子束(如電子、質子或離子)來激發核反應或產生核。
束源爐的主要功能包括:
1. **核反應研究**:通過產生高能粒子束,研究人員可以探測和分析核反應的性質。
2. **材料輻照**:束源爐可以用于材料科學研究,通過輻照材料以研究其性質變化。
3. **醫學應用**:在放射中,束源爐也可以用于生成特定的放射性同位素,用于等。
整體來看,束源爐是現代核技術和粒子物理研究中一個重要的組成部分。
蒸發舟是一種用于薄膜沉積和蒸發材料的裝置,廣泛應用于材料科學、半導體制造以及光學薄膜的生產中。它的主要功能和特點包括:
1. **材料蒸發**:蒸發舟通過加熱將固體材料加熱到其熔點或蒸發點,使其轉變為氣態,隨后沉積到基材上形成薄膜。
2. **薄膜均勻性**:蒸發舟可以控制蒸發速率和溫度,從而在基材上形成均勻厚度的薄膜,這對于光學性能和電學性能至關重要。
3. **控制**:通過調整蒸發舟的加熱方式(如電阻加熱、激光加熱等),可以實現對蒸發速率和沉積材料的控制。
4. **多種材料**:可以使用材料,如金屬、氧化物和聚合物,進行蒸發沉積,以滿足不同應用的需求。
5. **真空環境**:通常在真空環境中進行操作,以減少氧化和污染,提高薄膜的質量和性能。
6. **應用廣泛**:用于光電器件、太陽能電池、傳感器等多個領域,通過制備高性能薄膜來提升器件性能。
蒸發舟在薄膜技術中的重要性使其成為現代材料科學和工程中的一種關鍵工具。

束源爐(也稱束流源或粒子束源)是一種產生高能粒子束的裝置,廣泛應用于粒子物理、材料科學、醫學和工業等領域。其主要功能包括:
1. **粒子束生成**:束源爐能夠生成高能電子、質子或離子束,供給實驗或應用需要。
2. **加速粒子**:通過電場和磁場加速粒子到所需的能量,從而實現對粒子的控制和操縱。
3. **材料研究**:在材料科學中,束源爐可用于對材料進行輻照實驗,研究其在高能粒子輻照下的結構和性能變化。
4. **醫學應用**:在領域,束源爐可以用于(如質子療法)、放射等。
5. **顯微成像**:利用電子束進行掃描隧道顯微鏡(STM)或透射電子顯微鏡(TEM)等高分辨率成像。
6. **同位素生產**:產生短壽命或特定同位素,以用于醫學成像或。
7. **基礎科學研究**:為基本粒子物理實驗提供高能碰撞,幫助研究粒子特性和宇宙基本法則。
總之,束源爐是一個重要的研究和應用工具,為科學研究和技術發展提供了基礎支持。

電阻蒸鍍機是一種用于薄膜沉積的設備,廣泛應用于電子、光電、材料科學等領域。它的主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:通過電阻加熱將材料蒸發,然后在基材上形成薄膜。
2. **高精度控制**:可以控制沉積速率和膜厚,使其適應不同需求的薄膜特性。
3. **氣氛控制**:在真空或特定氣氛下進行蒸鍍,以提高薄膜的質量和性能。
4. **多材料蒸鍍**:可同時或不同時間段內蒸發多種材料,以實現多層薄膜的沉積。
5. **適用于多種材料**:能夠處理多種金屬、合金及一些陶瓷材料。
6. **高均勻性**:通過優化設備設計,沉積的薄膜一般具有較高的均勻性和一致性。
7. **溫度監控**:設備通常配備溫度監控系統,以確保基材和蒸發材料的溫度適宜。
電阻蒸鍍機因其、以及能夠制作量薄膜的優點,成為研究和工業應用中的重要工具。

束源爐是一種用于核聚變研究和實驗的設備,其主要特點包括:
1. **高溫高壓環境**:束源爐能夠創造極高的溫度和壓力,以促進核聚變反應的發生。
2. **等離子體控制**:通過強磁場或其他手段,束源爐能夠有效控制和維持等離子體的穩定性,這是實現聚變的關鍵。
3. **粒子束注入**:束源爐通常使用高速粒子束注入技術,將粒子直接注入等離子體中,以提高反應的效率以及能量的密度。
4. **實驗靈活性**:束源爐的設計允許對不同的聚變燃料(如、氚等)進行實驗,這為研究聚變反應提供了靈活性。
5. **能量輸出**:如果成功實現聚變反應,束源爐有潛力成為一種的能量來源,對未來的能源解決方案具有重要意義。
6. **研究應用**:束源爐不僅用于基礎科學研究,還可應用于醫學、材料科學及核能開發等多個領域。
總體而言,束源爐是一種的科學儀器,為核聚變技術的發展提供了重要的實驗平臺。
熱蒸發鍍膜機是一種廣泛應用于材料科學、半導體工業、光學器件制造等多個領域的設備。其適用范圍包括但不限于以下幾個方面:
1. **光學鍍膜**:用于光學透鏡、濾光片、反射鏡等光學元件的鍍膜,提升其透過率和反射率。
2. **電子器件**:在半導體器件制造中,用于沉積金屬或絕緣材料,形成電路圖案。
3. **太陽能電池**:用于光伏組件的薄膜沉積,提高能量轉化效率。
4. **金屬鍍層**:在材料表面形成金屬層,以增強導電性、抗腐蝕性等。
5. **材料研究**:用于新材料的開發和性能測試,研究薄膜特性及其應用。
6. **裝飾性鍍層**:在珠寶、鐘表等產品上進行裝飾性鍍層,提升外觀及耐用性。
由于熱蒸發鍍膜機具有良好的沉積均勻性和控制精度,因此在各個領域中都受到廣泛應用。
http://www.deafan.com.cn