真空腔室Ф246×260mm,304優質不銹鋼
分子泵國產FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規全量程真空規
蒸發源電阻蒸發源(兼容金屬與有機蒸發)3組,可切換使用
蒸發電源2000W直流蒸發電源1臺,供3組蒸發源切換使用
控制系統PLC+觸摸屏智能控制系統1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
電阻蒸鍍機是一種用于薄膜沉積的設備,主要利用電阻加熱的方式將材料轉化為蒸氣,然后在基材表面沉積形成薄膜。其工作原理通常包括以下幾個步驟:
1. **材料準備**:將待蒸發的材料放置在電阻加熱器上,通常是金屬或合金材料。
2. **加熱**:通過電阻加熱器通電,材料在高溫下蒸發,形成氣態的原材料。
3. **沉積**:蒸汽擴散到基材表面,并冷凝形成薄膜。基材可以是玻璃、塑料、金屬等。
4. **控制**:設備通常配備溫度和壓力傳感器,以確保蒸鍍過程的穩定性和均勻性。
電阻蒸鍍機廣泛應用于光學膜、電子元件、太陽能電池等領域,其優勢包括較高的沉積速率、良好的膜質量和較大的適用材料范圍。
束源爐是一種特殊類型的核反應堆,主要用于研究和醫學應用。它的特點包括:
1. **中子源**:束源爐能夠產生大量的中子,這些中子可用于材料研究、核檢測、醫學成像及等領域。
2. **小型化**:與傳統的核反應堆相比,束源爐通常較小,設計上更為緊湊,適合于實驗室或等場所。
3. **低功率運行**:束源爐的運行功率相對較低,一般在幾千瓦到幾兆瓦之間,適合用于中子輻照實驗。
4. **安全性**:由于功率較低,束源爐的設計通常具有更高的安全性,反應堆的重要系統和結構更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基礎科學研究外,束源爐還可用于材料分析、核醫學以及教育等多個領域,顯示出其多功能性。
6. **易于安裝與維護**:束源爐一般設計得更加便捷,方便安裝和日常維護。
7. **放射性廢物處理**:由于其低功率的特性,所產生的放射性廢物相對較少,處理相對簡單。
這些特點使得束源爐在研究和應用中發揮了重要的作用。

熱蒸發鍍膜機是一種用于物相沉積(PVD)技術的設備,主要功能包括:
1. **膜層制備**:通過加熱蒸發材料,使其轉變為氣態,并在基材表面沉積形成薄膜。可以用于制備金屬、絕緣材料或半導體薄膜。
2. **膜層厚度控制**:通過控制蒸發率和沉積時間,可以調節膜層的厚度。
3. **材料種類選擇**:可以使用多種材料進行蒸發,如金、銀、鋁、氧化物等,以實現不同的光學或電氣性能。
4. **真空環境控制**:在真空環境中進行鍍膜,降低空氣中的雜質對膜層質量的影響,提高膜層的致密性和均勻性。
5. **基材適應性**:可用于多種基材的鍍膜,包括玻璃、塑料、金屬等。
6. **功能性薄膜的制備**:可以制備不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、導電膜、光電膜等,廣泛應用于光電子器件、顯示器、傳感器等領域。
7. **多層膜制備**:可實現多層膜的疊加,制造復雜結構以滿足特定的光學或電氣特性。
這些功能使得熱蒸發鍍膜機在材料科學、電子、光學等領域有著廣泛的應用。

小型熱蒸發鍍膜機是一種常見的實驗室設備,主要用于材料表面的薄膜沉積,其特點包括:
1. **小巧便攜**:設計緊湊,適合實驗室、研究機構及小規模生產等場所使用,便于搬運和安裝。
2. **操作簡便**:通常配備直觀的操作界面和控制系統,便于用戶操作和調節參數。
3. **蒸發效率高**:利用熱蒸發原理,能夠在較短時間內實現率的鍍膜過程。
4. **適用材料廣泛**:可以用于多種金屬及某些非金屬材料的蒸發鍍膜,適應性強。
5. **膜層質量好**:能夠沉積出均勻、致密的薄膜,滿足高要求的光學、電氣性能。
6. **真空環境**:配置高真空系統,可以有效防止污染,提高膜層純度。
7. **溫度控制**:具備的溫度控制功能,能夠調節蒸發源的溫度,以優化膜層性能。
8. **成本相對較低**:相比于大型鍍膜設備,投資成本較低,適合預算有限的單位。
9. **多樣化的附加功能**:部分設備還可以選配如厚度監測、靶材更換等功能,以提高應用的靈活性。
10. **節能環保**:現代設備在設計上往往考慮能耗,運行過程中的能量利用效率較高。
這些特點使得小型熱蒸發鍍膜機在科學研究、新材料開發和小規模生產中擁有廣泛的應用前景。

手套箱一體機是一種集成多種功能于一體的設備,主要用于提供無塵、無污染的環境,以便在嚴格控制條件下進行實驗或操作。其特點包括:
1. **封閉環境**:手套箱一體機通常是密封的,可以有效防止外界空氣和污染物進入,適合處理敏感材料或化學物質。
2. **手套操作**:設備配備有手套,操作人員可以在箱內安全地處理物品,無需直接接觸。
3. **氣氛控制**:許多手套箱一體機可以調節內部氣氛,例如控制氧氣、濕度、溫度等,以適應不同實驗的需求。
4. **集成化設計**:設備通常將多種功能集成在一起,可能包括凈化系統、氣體監測、溫控系統等,提供一體化的解決方案。
5. **高安全性**:手套箱一體機設計上考慮了操作安全,通常具備泄壓、報警等安全機制,以應對潛在的危險。
6. **靈活性**:可以根據實驗需求進行定制,適應不同類型的實驗和操作。
7. **易于清潔維護**:設備表面一般采用光滑、耐腐蝕材料,方便清潔和維護。
8. **可視化系統**:一些手套箱一體機配備有觀察窗口或攝像系統,使操作人員可以監控內部情況,確保實驗順利進行。
這些特點使手套箱一體機在材料科學、化學研究、生物實驗等領域廣泛應用。
熱蒸發鍍膜機是一種廣泛應用于薄膜沉積的設備,適用于多種領域和材料。其適用范圍主要包括:
1. **光學器件**:用于生產光學薄膜,如抗反射膜、鍍膜鏡頭等。
2. **電子元件**:在半導體、光電子、太陽能電池等領域沉積金屬和絕緣層。
3. **裝飾性涂層**:用于金屬、玻璃、塑料等表面的裝飾鍍膜,以提升美觀和耐腐蝕性。
4. **傳感器**:在傳感器制造過程中用于沉積薄膜,以實現特定的電學、光學或化學特性。
5. **硬質涂層**:用于工具、模具等表面的硬化處理,提高耐磨性和使用壽命。
6. **器械**:在某些器械中應用特殊薄膜以增強生物相容性或防污染。
7. **照明設備**:用于LED、激光器等照明設備中的薄膜沉積。
總之,熱蒸發鍍膜機因其操作簡單、沉積速度快以及適應不同材料的能力,成為許多行業中的制造設備。
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